▲ EUV 블랭크마스크(사진제공 : 아사히).

AGC아사히가 차세대 반도체 노광장비인 EUV 블랭크마스크의 공급능력을 강화한다.

AGC아사히는 향후 주류가 될 EUV 노광 기술의 확대를 위해 EUV 블랭크마스크의 공급 체제를 그룹 회사인 AGC전자 에서 올해부터 대폭 강화하기로 결정했다고 5일 밝혔다.

최근 전자 기기의 고기능·소형화에 따른 반도체칩의 고집적화가 요구되면서 반도체 칩의 회로 패턴을 더욱 미세화 하기 위해 노력중이지만 현재 광 리소그래피 기술에서는 ‘7nm 세대 ’로 불리는 반도체 소자의 미세 패턴 형성은 아직 어려운 상태이다.

여기서 이러한 단계의 미세 패턴 형성의 가능성으로 꼽히는 것이 EUV 노광 기술과 블랭크마스크이다. 블랭크마스크는 저팽창 유리기판의 표면에 여러성분의 막을 적층한 ‘포토마스크’의 원판이다.

AGC는 EUV 노광 기술에서 사용되는 포토 마스크 블랭크 (이하 EUV 블랭크마스크)의 연구 개발을 2003년에 시작하고 AGC가 보유한 유리 재료 기술, 유리 가공 기술, 코팅 기술 등을 통합해 현재 ‘유리 재료’에서 ‘막 재료’ 까지를 일관되게 다룰 수 있다.