헬륨이 필요 없는 노광(리소그래피) 장치용 ArF(불화아르곤) 엑시머 레이저가 개발됐다.

리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사는 급증하고 있는 반도체 수요에 대응할 신제품, 최첨단 액침 노광(리소그래피) 장치용 ArF 엑시머 레이저 ‘GT65A’ 1호기를 출하했다고 발표했다.

GT65A는 레이저의 안정 가동 및 공정 마진을 향상해 리소그래피 장치의 생산성 향상에 크게 기여한다는 것이 회사의 설명이다.

GT65A의 특징은 다운타임을 최대 50％ 개선했으며 주요 모듈인 챔버의 수명을 30％ 연장시켰다. 또한 스펙트럼 제어 기능인 안정화 기술 ‘eMPL Solid’와 컨트롤 기능 ‘hMPL’은 CD 균일성 향상 및 프로세스 최적화와 확장성을 가능하게 했다.

특히 GT65A는 헬륨가스가 필요없다. 기가포톤은 이를 통해 환경부담 절감뿐 아니라 미래의 헬륨가스 공급부족이나 가격 급등 시의 리스크를 대폭 줄임으로써 고객의 지속가능성 향상 및 CSR 활동에 기여하게 될 것이라 밝혔다.

대표이사 사장 우라나카 카츠미는 “최근의 반도체 시장이 호황을 보임에 따라 리소그래피 장치의 가동률 향상이 각 제조업체들의 주요 과제가 되었다”며 “기가포톤은 새로운 로드맵 ‘RAM Enhancement’에 따른 신기술을 통해 리소그래피 광원의 신뢰성·가동률·보수효율성을 더욱더 강화하고 개선하여 반도체 제조업계에 기여하겠다”고 말했다.