▲ 린데의 강석철 대리가 린데의 F₂·N₂O 생산기술에 대해 설명하고 있다..

가스분야에서 세계적인 기술력을 보유한 린데코리아가 전시회에서 그 기술력을 뽐냈다.

린데코리아가 9일부터 12일까지 일산 킨텍스에서 열린 ‘2012 전자정보통신산업대전’에서 반도체·LCD 공정에 사용되는 가스인 불소(F₂), 아산화질소(N₂O) 등 특수가스 기술을 대중에게 선보였다.

이번에 린데에서 소개한 F₂는 반도체제조 공정 중 박막 필름 PECVD 챔버를 세정하는데 쓰이는 가스다. 친환경·고효율이며 또한 분해 에너지가 적고, N분자가 없어서 모든 가스 클리닝에 기여하기 때문에 삼불화질소(NF₃)의 대체용으로서 각광받고 있다.

특히 NF₃보다 제조단가가 저렴하고 식각에 들어가는 사용량이 적어도 NF₃를 사용한 것과 같은 효과를 낼수 있다고 린데의 강석철 대리는 밝혔다.

린데는 F₂를 온사이트를 통해 우리나라 주요 반도체·디스플레이 기업에 공급하고 직접 생산 시설을 설치·관리 하고 있다.

F₂는 반응성이 아주 크기 때문에 생산 공정에 있어 숙련된 기술과 철저한 관리 감독이 필요하다. 특히 불산누출과 후성의 NF₃화재사고 때문에 안전관리가 더욱 중요시되고 있다. 린데는 전시회를 통해 철저한 기술력으로 한치의 오차도 없는 안전관리로 제품을 생산·유통하고 있음을 강조했다.

이번 전시회에서 함께 소개한 아산화질소(N₂O)는 질산암모늄을 열분해할 때 생기는 무색 투명한 기체로 마취성이 있어 외과수술시 전신마취에 사용하기도 한다.

강석철 대리는 “N₂O가 반도체 공정에 사용될 때에는 제품의 응답속도를 높여주는 성능개선의 효과가 있다”며 “현재 연간 5,200톤 규모의 N₂O 생산공장을 충남 아산에 건립하고 있고, 오는 12월에 준공식을 가질 예정이다”고 밝혔다.

그는 또 “린데는 한국디스플레이산업협회가 실시하는 장비 재료성능평가 사업에서 F₂의 우수한 생산·관리 능력을 인정받아 정책적으로 이번 전시회에 참여하게 됐다”며 “린데의 우수한 기술력으로 앞으로도 F₂·N₂O 뿐만 아니라 산소, 질소, 아르곤 등 특수가스의 생산·유통에 최선을 다하겠다”고 밝혔다.

한편 린데코리아는 1988년 포항에 산업가스 제조설비를 가동한 이래 삼성, LG, 포스코, 호남석유화학, SK하이닉스 등 한국의 주요기업들과 거래하며 비즈니스를 확장하고 있다.