세계적인 산업가스 및 케미컬 전문기업인 에어리퀴드가 생산하고 있는 ZyALD™(고급 D램용 전구체)가 특허를 획득해 반도체 소재 솔루션인 ‘ALOHA™’가 한층 더 강화될 전망이다.

에어리퀴드 전자사업부는 지난 19일 반도체 공정에 사용되는 지르코늄 프리커서(전구체)인 ZyALD™(Tris(dimethylamino)cyclopentadienyl Zirconium)에 관한 특허를 중국 특허청으로부터 승인받았다고 발표했다. 에어리퀴드는 이미 한국, 싱가포르, 대만, 여러 유럽 국가들로부터 특허승인을 받은바 있다.

에어리퀴드가 2006년에 첫 선을 보인 ZyALD™는 전세계 D램 제조에서 실리콘 산화막(SiO₂)을 대체하는 물질로 부각되고 있는 하이-K(high-k)의 전구체다.

이 물질은 반도체를 제조할 때 지르코늄 기반의 유전체 증착에서 고온 상태로 원자층 증착(Atomic Layer Deposition, ALD)이 가능하도록 설계됐다. 높은 휘발성과 열 안정성, 높은 성장률 등 탁월한 물리화학적 속성을 지니고 있어 기존의 화학 물질을 빠르게 대체하고 있으며, 제조 공정에서는 프로세스 윈도우 확장의 효과를 제공한다.

ZyALD™는 미, 프랑스, 일본에 위치한 에어리퀴드의 ALOHA™센터들에서 제조된다. 이곳에서는 차세대 반도체 제조를 책임질 ALOHA 제품 라인의 프리커서를 생산하고 있다. ALOHA 제품라인은, 톤 단위의 실리콘 프리커서와 high-K 소재부터 소량의 실험용 R&D 제품까지 45 nm 미만의 디바이스 제조를 위한 고급 CVD(Chemical Vapor Depositon, 화학기상증착)와 ALD를 모두 가지고 있다.

또한 ALOHA™ 프리커서는 세계정상의 Air Liquide-BALAZS™ 분석 기술을 기반으로 초고순도 캐니스터와 경쟁력 있는 스펙 등으로 구성된 종합 패키지로, 에어리퀴드의 지식재산권에 따라 프리커서를 사용할 수 있는 라이선스도 제공된다.

에어리퀴드 전자사업부의 CTO인 장-마르크 지라드(Jean-Marc Girard)는 “에어리퀴드는 고객에게 혁신적인 제품을 제공함으로써 고객의 어떤 프로세스 요건에도 부응할 수 있도록 매진하고 있다”며 “ ZyALD™ 는 ALOHA™가 도입한 매우 성공적인 제품 중 하나이며, 우리는 R&D에 대한 꾸준한 투자가, 신제품을 시장에 선보이는 원동력이라고 믿고 있다”고 말했다.

한편 에어리퀴드의 ‘ALOHA™’는 ALD 및 CVD 전구체 및 소재 솔루션 라인업을 일컫는 브랜드다.