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  • 기사등록 2010-01-28 17:41:34
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해외에 출원한 특허를 더 빨리 받을 수 있도록 선진 특허청 간의 협력이 가속화되고 있다.

특허청은 28일부터 29일 양일간 중국 북경 중국 지식재산배훈중심(CIPTC: China IP Training Ceter)에서 열리는 ‘특허분야 G5 특허청 차장회의’에 김원중 특허청 차장이 참석한다고 밝혔다.

이번 차장회의에서는 ‘한-미-일-EU-중’의 특허청이 공동으로 추진하는 10대 공동과제 착수에 합의할 것으로 알려졌다.

우리나라를 포함한 5개국은 전 세계 특허출원의 77%를 차지하는 특허대국으로 특허심사를 줄이기 위해 특허청간 중복 출원된 특허에 대해 먼저 심사한 국가의 특허청 자료를 활용한다는 계획이다.

금번 G5 특허청 차장 회의의 합의에 따라 5개국 특허청은 국가별로 상이한 특허심사 환경의 조화를 위해 △공동 특허 검색 DB 구축 △특허분류 및 심사결과 공유 시스템 등 다양한 프로젝트를 추진한다.

특히, 우리나라 특허청은 특허심사관 교육훈련, 외국어 자동번역 사업 수행 등에 있어서 5개국 협력을 리드하기로 했다.

우리측 수석대표인 김원중 특허청 차장은 “G20 시대를 맞아 특허분야는 2008년 제주에서 개최된 특허분야 G5 청장회의에서 시작된 G5 국가간 협력이 궤도에 올라 이제 10대 기반과제의 본격 착수가 개시됐다”라며 “5개국 간 국제공조가 본격화되면 각국 특허심사의 품질과 효율성이 높아질 뿐만 아니라, 5개국 특허심사 환경이 유사해짐에 따라 우리 국민이 해외에서 더욱 쉽고 편리하게 특허를 획득할 수 있게 될 것”이라고 밝혔다.

한편, 금번 G5 특허청 차장 회의 결과는 오는 4월 중국에서 개최될 특허청장 회의를 통해 최종 확정돼 추진될 예정이다.

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