▲ 린데코리아 부스 전경.

린데코리아가 전자산업의 글로벌 솔루션 역량을 과시했다.

린데코리아는 지난 2월4일부터 6일까지 서울 코엑스에서 개최된 세미콘 코리아 2015에 참가했다.

이번 전시회에서 린데코리아는 F₂(불소), HCL(염화수소), N₂O(아산화질소), XeF₂(플루오르화크세논) 등 전자산업에 필수적으로 사용되는 특수가스 제품군을 집중 소개했다.

F₂는 반도체용 세정가스로 NF₃를 대체하는 특수가스로 주목받고 있다. 특히 최근 NF₃의 품귀현상으로 인해 F₂에 대한 관심이 높아지고 있다.

F₂는 온사이트 방식으로 공급되고 있는데 린데의 ‘Generation-F’ 온사이트 불소생산기는 안전하고 신뢰성 있는 불소 생산 및 공급에서 타의 추종을 불허하는 10년 이상의 경험으로 광전지, 디스플레이 및 반도체 분야에서 정확한 사양을 충족한다.

‘Generation-F’ 시스템에서 공급되는 초고순도 불소가스는 가장 높은 세정성능과 생산성 향상을 제공하고, 지구온난화지수 0으로 전력소비와 환경영향이 적은 친환경 가스다. 이 시스템은 연간 1톤∼수백톤의 모든 유량, 농도, 가스량 요건을 충족할 수 있는 모듈식 설계이기 때문에 단일 툴 설비는 물론 대규모 설비에도 적합하다. 또한 고용량 고압 저장시설이 불필요하고, 넓은 설치기반으로 현재 전 세계에 30개 이상의 ‘Generation-F’ 시스템이 설치돼 있다.

HCL은 에칭공정에서 사용되는 가스로 린데는 5N(99.999%)에 달하는 고순도 HCL을 벌크와, 실린더 형태로 공급하고 있다. 최근 국내 유수의 반도체기업에 평가를 진행 중이다.

‘웃음가스’라고 불리는 N₂O는 기존 의료용에서 반도체 및 TFT LCD나 OLED제조 등으로 수요처가 확대되고 있다. 이에 린데코리아는 충남 아산 인주공장에 5,200톤 규모의 N₂O 생산플랜트를 설치한 바 있다. 회사는 고순도 N₂O 생산을 강화해 반도체·LCD 수요에 대응할 계획이다.

XeF₂는 센서, MEMS 등 제조시 리소그래피 공정에서 사용되고 있다. 최근 반도체공정 미세화 추세에 따라 반도체산업에서도 사용 가능성이 높아지면서 수요확대가 기대되고 있다.

한편 린데는 전자제품 제조에 필요한 각종 특수가스를 제공하기 위해 전략적으로 핵심 제조허브에 위치한 글로벌 생산공장 네트워크를 운영하고 있다. 100여가지 특수가스와 혼합가스를 제공하는 린데는 전자산업 특수가스 고객들이 일차로 선택하는 브랜드로 10개에 달하는 전자산업 특수가스 생산 공장들이 전략적으로 핵심 제조시장에서 위치하고 있어 고객들에게 적시 납품을 하고 있다.