▲ 2015 캘리포니아 광학 박람회에서 프리츠 제르니커(Frits Zernike) 어워드를 수상한 미국 머크 화학 사업 기술 책임자 랄프 다멜 박사.

AZ 일렉트로닉머티리얼즈 (現머크 기능성 소재 사업부)의 CTO(최고기술책임자) 였던 랄프 다멜 박사가 지난달 23일 개최된 2015 캘리포니아 광학박람회(SPIE Advanced Lithography Exhibition 2015) 시상식에서 미세공정분야의 권위있는 상인 프리츠 제르니커(Frits Zernike) 어워드를 수상했다.

프리츠 제르니커 어워드는 매년 미세공정기술, 특히 반도체 미세회로 구현 솔루션에서 뛰어난업적을 이룩한 개인에게 수여된다. 다멜 박사는 반도체 초미세 가공을 위한 포토레지스트, 반사방지코팅, 유도자기조립(DSA) 소재개발에 지대한 기여를 인정받아 올해의 수상자로 선정됐다.

시상식 후 다멜 박사는 “앞서 미세공정 분야에서 수상한 모든 위대한 개발자들과 함께 하게 돼 영광스럽고 겸손한 마음이 든다”며 “상을 받기까지 함께해 준 동료들과 협업 파트너에게 감사를 드린다”며 소감을 전했다.

이번 상은 2015 심포지엄 공동좌장인 브루스 스미스 로체스터 공대교수가 개회식에서 수여했다.

다멜 박사는 화학과 초미세 가공분야에서 200여건의 논문을 발표했으며, 90여건의 관련분야 특허를 보유하고 있다. 그의 유명 저서인 ‘다이아조 나프토 퀴논 기반 레지스트’는 이 분야의 교과서로 사용될 정도다.

다멜 박사는 AZ와 그 이전 직장에서 1986년부터 글로벌 R&D 디렉터, CTO 등 다양한 기술보직을 맡았다. 다멜 박사는 2014년 머크의 AZ 인수 이후 미국 화학사업 기술책임자에 올랐으며 미세공정과 신규 유망 기술분야에서 자신의 전문성을 계속해 발휘할 예정이다.

다멜 박사는 SPIE 정회원으로, 국제 광학회(SPIE)와 미국 화학회(ACS)에서 다수의 교육과정을 맡은 강사로도 활동하고 있다. 2011년 6월에는 광중합체(Photopolymer)과학기술 우수상을 수상하기도 했다.

반도체 업계에서 광화학과 집적회로 소재를 만드는 선도 업체인 머크는 지난달 22~26일 열린2015 캘리포니아 광학박람회(SPIE Advanced Lithography Exhibition 2015)에 참여했다. 다멜 박사는 R&D 동료들과 함께 최신 DSA 개발 동향에 관한 특별 발표도 했다. 발표는 SPIE 행사장에서 여덟 차례의 프리젠테이션으로 진행됐다. 발표주제는 DSA 결함, 라인표면거칠기/라인크기변동(LER/LWR), templated DSA, chemoepitaxy DSA, high chi DSA, 새로운 블록공중합체, DSA 집적 등이었다.

SPIE는 1955년 설립된 광학분야(optics and photonics) 국제 학회로 광기반 기술발전을 취지로 한다. 학회회원은 155개국 23만5000명에 육박한다. 분야간 정보교류, 전문가 네트워킹, 특허 지원을 위해 컨퍼런스, 평생교육, 단행본과 저널 출판, 디지털 도서관 사업 등을 진행하고있다.