세계 최대 반도체 장비업체인 네덜란드 ASML이 10나노이하 차세대 반도체 공정에 필요한 극자외선(EUV) 노광장비를 실제 생산현장에 공급한다.

ASLM은 미국의 주요 반도체 제조사 중 한 곳과 최소 15대의 극자외선 (EUV) 노광장비 공급 계약을 맺었다고 23일 밝혔다.

이번 계약은 반도체 개발 및 차세대 반도체 제조 공정의 시범 생산을 지원하고자 체결된 것으로, 해당 고객사는 새로 도입하는 시스템을 미래 공정 기술을 위한 멀티플 프로세싱 단계에 사용할 것으로 알려졌다.

ASLM은 구체적인 공급업체와 금액에 대해 밝히지 않았지만 전문가들과 외신들은 거래처를 인텔로 지목하고 있으며 장비가격은 대당 3~5천억원으로 추산하고 있다.

극자외선(EUV)노광은 초미세공정에 필요한 새로운 패터닝 기술로, 반도체 칩 안에 더 많은 트랜지스터를 담을 수 있다. 또한 반도체 수율을 높이고 칩 제조 공정을 더욱 단순화해 원가도 낮출 수 있다. 그러나 EUV노광장비 개발이 더디게 진행되면서 생산라인에 투입되지 못하고 주요 반도체 제조사와 파운드리 업체들이 한두대 구입해 주로 연구개발에 사용하는데 그쳤다.

ASLM은 먼저 2대의 EUV 노광 시스템을 올 연말 이전에 고객사 생산라인에 공급할 계획이며 기존에 설치된 EUV시스템과 함께 반도체 제조 공정에 사용될 예정이다.

피터 베닝크 ASML CEO는 “이제 EUV 노광시스템은 양산 과정 도입 단계에 들어섰으며, 이러한 반도체 산업의 새로운 혁신을 발판삼아 EUV의 장기적 계획과 에코시스템에 대한 준비도 순조롭게 진행되고 있다”며 “EUV 노광 시스템에 대한 ASML의 노력은 EUV의 계획 범주를 넓히고 EUV에 대한 자신감을 증진시키는 데 큰 역할을 하고 있다”고 덧붙였다.