국내 산학연 반도체 공정기술 전문가들이 모여 반도체 공정 실시간 진단을 통한 수율향상 방법을 논의한다.

한국표준과학연구원(KRISS, 원장 신용현)이 10일 KRISS 기술지원동 세미나실에서 제9회 반도체 공정진단 워크숍을 개최한다.

차세대 반도체 기술의 핵심이 되는 실시간 공정 모니터링 및 분석 기술 개발을 주제로 열리는 이번 워크숍에는 관련 산학연 전문가 100여 명이 참석해 반도체 공정 및 장비 기술 자립화를 위한 정보를 공유한다.

우리나라는 세계 최고수준의 반도체 제조 기술을 가지고 있지만 반도체 공정 및 장비를 실시간으로 모니터링하고 분석하는 진단기술은 여전히 취약해 실시간 진단기술을 통해 수율향상을 이끌어내는 것이 중요하다.

이번 워크숍에서는 △초박막 공정을 위한 플라즈마 진단 표준화 △플라즈마 모니터링 시스템 △실시간 공정입자 복합특성 측정 장치 △레이저홀로그램과 신경망을 이용한 플라즈마 모니터링 △반도체/OLED 증착소재 및 장비부품 코팅소재 평가방법 등이 논의될 예정이다.

KRISS 진공기술센터 윤주영 센터장은 “지난 9년 동안 반도체 공정진단 워크숍을 통해 국내 반도체 공정진단기술 관련 산학연 전문가들이 한 자리에 모일 수 있었다. 앞으로도 행사를 지속적으로 개최해 국내 반도체 기술 향상 및 장비 국산화를 이루는데 노력할 것이다.”라고 말했다.

KRISS는 2007년부터 매년 반도체 공정진단 워크숍을 개최하고 있으며 이번 행사는 9회째 행사이다.