▲ TruPlasma RF 1003.

한국트럼프지엠비에이취㈜가 극초단 펄스레이저 기술을 대중에 선보인다.

한국트럼프는 오는 2월8일부터 10일까지 서울 삼성동 코엑스에서 개최되는 ‘SEMICON KOREA 2017(세미콘 코리아 2017)’에 참가한다고 6일 밝혔다.

이번 전시회에서 한국트럼프는 다양한 출력 및 주파수 스펙트럼을 자랑하는 TruPlasma 제너레이터 및 TruMicro극초단 펄스레이저를 소개할 계획이다.

TruPlasma RF 1000/3000 시리즈는 사용자의 적용 분야에 최적화된 차세대 RF 제너레이터로 안정적인 전력 출력과 높은 제어 정밀도로 생산성 높은 최상의 결과물을 보장한다.

RIE, ALD, PECVD 및 RF 스퍼터와 같은 플라즈마 프로세스에 매우 적합한 TruPlasma RF 1000/3000 시리즈는 특히 반도체, 디스플레이, 솔라셀 제조 및 산업용 코팅 등 다양한 플라즈마 공정에 사용된다.

TruPlasma VHF 3000시리즈는 매우 정밀한 공정 조건을 충족시킬 수 있는 혁신적인 플랫폼 컨셉에 기반을 두고 있다. VHF 제너레이터의 순수 수냉식 모듈 구조는 최대 80 kW, 160 MHz 이상 전력 출력을 확장할 수 있다. 콤팩트한 VHF 제너레이터의 높은 경제성과 견고한 디자인으로 정평이 나 있는TruPlasma VHF 3000시리즈는 안정적이고 각각의 공정에 최적화된 솔루션을 제공하여 탁월하고 아주 정밀한 여러 공정 조건에 적합하다.

TruPlasma MF 제너레이터는 듀얼 마그네트론 스퍼터링과 반도체, 디스플레이 공정 및 다양한 어플리케이션에 사용된다. 높은 전력 출력 및 공정 안정성 덕분에 증착율이 높은 건축용 유리의 코팅과 반도체 또는 솔라셀의 매우 얇고 균일한 코팅 작업에 적합하다. 탁월한 정확도와 생산성으로TruPlasma MF 제너레이터는 다양한 어플리케이션을 위한 이상적인 솔루션이다.

TruPlasma Match 1000시리즈 매칭 네트워크는 TRUMPF RF제너레이터와 결합하여 최고의 공정 안정성 및 생산성을 위한 최적의 솔루션을 제공한다. 매칭 네트워크와 제너레이터 간의 직접적인 통신을 통해 빠른 매칭과 모니터링이 가능하며, ALD 공정에도 적합하다. 플라즈마 에칭, 반응성 이온 에칭, ALD, PECVD, RF 스퍼터링 또는 감광 플라즈마 애싱 등 표면 코팅 또는 제거를 위한 모든 플라즈마 공정에서 사용할 수 있다.

TRUMPF Hüttinger의 탁월한 아크 처리와 DC펄스 테크놀로지의 장점을 결합 시킨TruPlasma DC 4000시리즈는 향상된 코팅 결과를 가능하게 하며, 우수한 표면과 높은 생산성을 자랑한다. 특히 최고의 층 품질 및 생산성이 동시에 요구되는 주요 PVD, PECVD 프로세스에서 그 효과가 입증되었다.

PVD, PECVD 및 반응성 스퍼터링 공정과 같은 플라즈마를 이용한 코팅 작업을 위해 개발된 TruPlasma Bipolar 4000 시리즈는 유연한 파형의 출력과 정교한 아크 관리로 인하여 매우 광범위하게 사용될 수 있다. 반도체 및 솔라셀의 제조 또는 건축 유리의 코팅, 어느 경우에도 최고 성능의 코팅 품질 및 코팅율을 기대할 수 있다. 반도체 및 광전지 생산, 건축 유리 코팅 및 최고 품질의 내 마모적 장식 코팅물 제조 및 특히 PVD 및 PECVD 공정에 사용된다.

TruMicro 2000 시리즈 레이저는 낮은 평균 출력에서도 열 최소화 공정이 가능하며, 박판 필름 절단이나 박막 제거 공정에 최적화되어있다. 또한 높은 빔 품질, 유연성 및 공정 안정성을 자랑한다.

TruMicro 5000 시리즈 레이저는 최대 평균 출력 150 와트 및 최고 펄스 에너지를 가진 극초단 펄스 레이저로 10 피코세컨드 미만의 극도로 짧은 펄스는 거의 모든 재료를 고속으로 기화시켜서 열 영향 구역이 거의 나타나지 않으며, 미세 공정에서 품질, 생산성 및 비용 효율성을 극대화 시킬 수 있다.

한국트럼프 관계자는 “SEMICON KOREA 2017 전시를 통해 다양한 어플리케이션에 적합한 TruPlasma 제너레이터 및 TruMicro 극초단 펄스레이저를 비롯해 생산성과 제품 품질 향상에 기여할 수 있는 TRUMPF의 최신 기술을 선보일 수 있기를 희망한다”고 전했다.