▲ 듀폰이 EUV 포토레지스트 한국 투자신고서를 제출하고 함께 기념촬영에 응하고 있다.

미국의 세계적인 화학소재 기업 듀폰이 일본의 수출규제 3대 품목 중 하나인 EUV(극자외선)용 포토레지스트를 국내 천안공장에서 생산하면서 공급 안정화에 기여할 전망이다.

산업통상자원부(장관 성윤모)는 현지시간으로 지난 8일 성윤모 산업부 장관이 듀폰의 존 켐프(Jon D. Kemp) 사장을 만난 자리에서 듀폰이 코트라에 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 구축을 위해 2,800만달러의 투자신고서를 제출했다고 밝혔다.

이번 듀폰의 투자는 반도체 극소형화에 필요한 차세대 제품·기술 개발 및 공급 다변화 요구에 부응하고, EUV용 포토레지스트 등 점차 성장중인 시장에 선제적으로 대응하기 위한 것이다.

듀폰은 한국내 자회사인 롬엔드하스전자재료코리아(유)를 통해 지난 1998년부터 천안에 2개의 공장을 가동해 반도체 공정에 필요한 KrF(불화크립톤)·ArF(불화아르곤) 포토레지스트, 빛반사 방지막제, 금속박막도금, 유전체, 클리닝 화학제품 등을 생산하고 있다.

이번 투자에 따라 듀폰은 천안공장에 EUV용 포토레지스트 개발·생산과 CMP 패드생산을 추진한다. 포토레지스트는 웨이퍼 위에 패턴을 형성하는 포토 리소그래피 공정에서 사용되는 감광성 재료다. CMP 패드는 반도체 웨이퍼 표면을 화학적, 기계적 방법으로 연마하여 평탄화하는 과정에 사용되는 패드로 듀폰은 세계시장의 80% 이상 점유율을 차지하고 있다.

정부와 충남도는 향후 투자과정에서 애로사항 해소 및 투자 부지의 외국인투자지역 지정 및 임대료 감면 등 인센티브 지원이 차질 없이 이뤄지도록 노력할 예정이다.

이번 투자유치를 통해 주로 일본에서 수입에 의존하던 EUV용 포토레지스트의 공급선 다변화라는 성과는 물론 국내기업과의 상생협력 및 소재·부품·장비 산업경쟁력 강화에 기여할 것으로 기대되고 있다.

이날 존 켐프 사장은 “EUV용 포토레지스트 개발·생산을 위해 앞으로 한국 내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력해 나갈 계획”이라고 밝혔다.

성윤모 장관은 “최근 일본 정부의 EUV용 포토레지스트에 대한 특정포괄허가 허용 등 일본 수출규제 조치 해결에 일부 진전이 있었지만, 근본적인 해결방안으로 보기는 어렵다”며 “정부는 핵심 소재부품·장비에 대한 기술경쟁력 확보와 공급선 다변화를 계속해서 추진해 나갈 것”이라고 강조했다.

한편 성윤모 장관은 9일 미국 실리콘밸리에서 에어프로덕츠, 고어 등 미국 회사를 대상으로 개최한 투자가 라운드테이블 행사에 참여해 앞으로 한국과 협력이 유망한 투자분야로 △수소경제 △반도체 △스타트업(Start-up)을 제안했다.

이에 이날 참석한 수소차 관련 소재기업은 국내 수요기업과의 협력 가능성을 고려해 한국에 생산시설을 구축하는 투자를 적극 고려할 계획임을 밝히고, 한국정부의 지속적인 관심과 지원을 요청했다.