▲ KLA Archer 750 and SpectraShape 11k

KLA Corporation이 새로운 ic 계측 시스템 출시로 고성능 로직과 메모리 칩 제조에 기여한다.

KLA는 집적회로 제조를 위한 Archer™ 750 이미징 기반 오버레이 계측 시스템과 SpectraShape™ 11k광학 임계치수(Critical Dimension)를 새롭게 출시한다고 26일 밝혔다.

Archer 750은 칩의 각 레이어가 구성됨에 따라 패턴 형상이 이전 층의 형상과 제대로 정렬이 되는지 검증하며, SpectraShape 11k는 트랜지스터와 메모리 셀 등의 3D 구조를 모니터링해 스펙이 유지되도록 한다.

해당 신규 계측 시스템은 패턴 정렬 또는 형상의 섬세한 차이를 파악해 IC 제조업체들이 5G, AI, 데이터 센터 및 엣지 컴퓨팅 등의 애플리케이션에서 사용되는 고성능 메모리 및 로직 칩을 시장에 출시함에 있어서 요구되는 복잡한 공정을 엄격하게 제어한다.

KLA의 계측 부서의 존 매드슨(Jon Madsen)은 “첨단 칩에 새로운 구조와 신규 물질이 접목되면서 IC 업체들은 원자 단위에서 측정을 해야 하는 공정 허용 범위에 직면해 있다”며 “KLA는 이러한 칩을 고품질 표준으로 비용 효율적으로 생산되도록 하는데 있어서 중요한 역할을 한다. 오늘 당사의 포트폴리오에 추가되는 2개의 계측 솔루션을 발표하게 되어 영광이다. 이는 다양한 팀에서 근무하는 최고의 엔지니어 및 과학자들의 노력과 창의적인 사고의 결실이다. 새로운 SpectraShape 11k와 Archer 750 시스템은 Fab 고객들이 필요로 하는 공정 제어 역량을 제공하며 고객들이 세계를 발전시킬 수 있는 혁신적인 전자제품을 생산하도록 지원한다”고 말했다.

Archer 750 오버레이 계측 시스템은 공정 변동이 존재하는 상황에서 오버레이 오류를 정확하고 견고하게 측정함과 동시에 이전에는 산란계측(scatterometry-based) 기반의 오버레이 시스템에서만 가능했던 생산성 수준을 달성한다.

이 시스템은 다양한 층에서 신속하고 정확한 피드백을 제공해 사진 식각 엔지니어들이 첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자의 안정적인 생산과 빠른 수율 개선을 실현하도록 인라인에서 공정 이탈점을 파악하고 전반적인 패터닝 완성도를 향상시키는 작업을 지원한다.

SpectraShape 11k CD 및 차원 형상 계측 시스템은 감도와 생산성을 유례없는 수준으로 조합해서 이전에는 접근 불가능했던 웨이퍼 형상, 구조 및 소재를 지원한다.

첨단 로직, DRAM 및 3D NAND 소자 형상을 고정밀도와 높은 속도로 측정할 수 있는 역량을 보유한 SpectraShape 11k는 공정 문제를 빠르게 파악하고 생산 가동 중 공정을 엄격히 모니터링을 가능하게 한다.

성능을 개선해주는 신규 계측 시스템 및 기술 개발에 대한 세부 사항은 포트폴리오 정보 페이지에서 볼 수 있다.

Archer 750와SpectraShape 11k 시스템은 세계적인 선도 IC 제조업체의 인증을 거쳐 가동 중이며 혁신적인 전자 소자를 생산하는 다수의 공정 단계에서 중대한 영향을 미칠 수 있는 피드백을 제공한다.

Archer 750와 SpectraShape 11k는 실시간 공정 제어와 엔지니어링 모니터링 분석을 지원하는 KLA의 5D Analyzer 첨단 데이터 분석 시스템과 결합해서 사용된다.

Archer 750와 SpectraShape 11k 계측 시스템은 칩 제조업체들이 요구하는 높은 수준의 성능과 생산성을 유지하기 위해 KLA의 글로벌 종합 서비스 네트워크를 활용하고 있다.